中国国际半导体技术大会（CSTIC 2022）将于6月14日-7月12日在SEMI云端线上举行。近百位世界顶级专家汇聚一堂，共享前沿技术，内容涵盖IC设计、器件与集成、光刻、刻蚀、CMP、封装测试、化合物半导体等。
北方华创的资深专家们将在分论坛三- Dry & Wet Etch and Cleaning带来最新的刻蚀技术成果。在此，北方华创诚挚邀请您与我们一同交流探讨前沿刻蚀技术，推动产业进步，创造无限可能。
NAURA演讲时间
-Symposium III: Dry & Wet Etch and Cleaning-
Session III: FEOL/MOL Etching
演讲题目：《Bitline Etch Process Development for 1y nm DRAM Manufacturing》
讲师：姚兴俊 先生
Session III: FEOL/MOL Etching
演讲题目：《200/150/100mm Compatible, ICP/CCP Etch Total Solutions》
讲师：张轶铭 博士
Session IV: Plasma Source and Wet Etch/Clean
演讲题目：《SADP etch process development using PR core for sub 17nm DRAM》
讲师：徐力田 先生
Session V: BEOL Etching and Memory Etch
演讲题目：《Hard mask etch process development for patterning 60nm magnetic tunnel junction》
讲师：李晓辉 女士
Session VI: Other Etch and Patterning
演讲题目：《Trench Etch for SiC Power Devices》
讲师：谢秋实 先生
- 2022-09-09
- 2022-12-28
- 2022-12-26